7月27日，国内首台掩模基板商业专用抛光装备于台州完成整机出厂发货。该装备基于国内知名科研院所完成的原始创新技术从0-1的突破，依托台州光电产业创新中心完成工程二次培育与市场化推广落地，为国内高制程掩模基板制造提供高品质的抛光装备与解决方案，补齐国内相关领域关键装备短板。
该装备围绕纳米级平坦化与极端表面质量管控要求完成整机正向开发。整机架构管控标准、运行稳定性、核心参数达标良率对标国际先进设备水平。全部关键结构、控制程序、工艺算法拥有自主知识产权，完成了实验室原理样机到整套技术体系的闭环突破。
依托技术路线自主攻关、保障掩模基板优异全局平坦性
自主攻克精密光学元件全局平坦化收敛技术、区域化主动应力传递技术与光学材料专用终点检测技术三大核心技术壁垒。解决形貌控制精度与误差收敛的难题，实现掩模基板加工精度与制造难题的突破。
深耕理论基础与实践结合、突破极端表面质量管控难题
结合衬底损伤层均匀去除技术与原子级催化反应刻蚀原理，同步综合管控内层流循环、材料金属污染、静电捕捉、辅液结晶、湿法加工附着物等多因素，满足纳米级苛刻表面质量要求。
对标国际先进设备架构、提升产线效能与规格
整机采用全自动化智能控制、多功能集成、高洁净管控设计，确保装备整体工艺一致性与可靠性。差异化区别于传动抛光设备，精准补位关键工序缺失、提高终端用户产线规格与制造能力。
装备研发阶段同步落地超前概念验证机制，提前围绕量产稳定性、洁净室环境适配、长时间精度漂移抑制、耗材匹配性开展多轮验证迭代。前置化解产业化落地各类工程难题，缩短科研成果转化周期，搭建起精密光电装备高效成果转化的标准化实施路径。
依托之前输出的原始技术成果，台州光电装备产业链配套基础，对科研样机开展工业结构优化，完成实验样机向标准化商用工业设备的迭代升级。同时依托产业集聚优势，面向国内掩模基板厂商开展工艺适配对接与市场化推广，打通 “高校院所源头创新— 产业化工程推广—用户落地应用”完整链条。
该装备全局平坦化收敛、衬底损伤层均匀去除、原子级催化反应刻蚀等核心技术拥有突出的工艺通用性与产业辐射能力。应用领域可覆盖集成电路玻璃基板、封装玻璃载板、各类光学超薄玻璃、薄膜铌酸锂衬底、磷化铟衬底等高端平坦化需求。适配半导体光刻、先进封装、新型显示等多条产业链的基板平坦化工序，为下游企业补位产线设备配置、提供对应抛光装备与解决方案。
本次装备顺利发货，标志着掩模基板核心抛光装备国产化取得阶段性关键突破，实现“高校院所源头创新—产业化工程推广—用户落地应用”全链路贯通。依托协同创新机制，台州光电产业创新中心将持续深耕前沿预研、装备产业化转化与市场赋能，持续扩充国产半导体精密平坦化装备矩阵，为国内集成电路产业高质量发展、产业链自主可控注入强劲动力。
致力于打造国家级高端光电装备产业高地
关注公众号
浙公网安备XXXXXXX号